标题:金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-0.5μm

信息分类:站内新闻   作者:yiyi发布   时间:2015-10-1 22:43:30 将本页加入收藏

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正文:

金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-05μm

试样粗磨与细磨

  经砂轮打平后的试样,可用下面五种方法之一来进行研磨。
  (1)利用不同粒度的水砂纸,在平板玻璃上用手工磨制。
  (2)利用不同粒度的水砂纸,分别放在预磨机转盘上磨制。
  (3)直接使用不同粒度的磨粉,在抛光机上研磨。
  (4)利用蜡盘粗磨后,再用粗粒度氧化铝粉,悬浮浇在呢绒
盘上研磨,这个方法基本上可能代替全部金相砂纸。
  (5)如岩相制片一样,用中等粒度的磨料在铸铁盘上研磨。

抛光
  金相试样的抛光,可用如下方法来实现。


机械抛光
  机械抛光,可以是一级抛光,也可以分两级抛光,在两级抛光
的情况下,粗抛粒度可用5-7μm,精抛用1-05μm。
  抛光操作,目前仍多用为手持单试样的抛光机上进行。
  为了减少手工劳动,提高抛光效率,现正在向自动化方向发展
,目前广泛使用的有振动抛光机和自动抛光机两种。
  涂层材料的选择,决定于被涂材料的光学性质,应以满足其一
个相的反射率降低为零时的相位和振幅为条件,一般说来,高反
射被涂层材料要求高反射率的涂层,对低反射和强吸收性物质来
说,可以应用低反射率的涂层材料。











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